首頁 - 產品展示 - 去光阻液產品中心
| 產品名稱 | 產品外觀 | 密度 | pH(3%) | 用途及使用方法 | 產品特點 |
| ASTP100 | 無色至淡黃色透明液體 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于半導體芯片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 | （1）堿性有機體系； （2）對不腐蝕； |
| ASTP130 | 無色至淡黃色透明液體 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于藍寶石襯底芯片及PSS片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 | （1）堿性有機體系； （2）對Al、Ag、Ti和Wu等金屬不腐蝕； （3）去膠壽命長； |
| ASTP210 | 無色至淡黃色透明液體 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于藍寶石和硅襯底芯片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 | （1）強堿性有機體系； （2）對Al、Ag、Ti和Wu等金屬不腐蝕； （3）高效去除高壓和倒裝芯片殘膠； |
| ASTP300 | 無色至淡黃色透明液體 | 1.00-1.10 | 2.0-3.0 | 用于藍寶石襯底芯片及PSS片的去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 | （1）酸性有機體系； （2）對負膠有很強的去除能力； |
| ASTP219 | 褐色液體 | 1.00-1.10 | 10.0-11.0 | 用于黃光GaAs芯片去膠；浸泡或超聲下原液使用，溫度80-85℃。 | （1）酸性有機體系； （2）對GaAs無腐蝕； |